Surface chemical analysis — Sputter depth profiling — Optimization using layered systems as reference materials
L'ISO 14606:2000 donne des lignes directrices sur l'optimisation des paramètres de profilage en profondeur par pulvérisation à l'aide de matériaux mono- et multicouches de référence appropriés afin d'atteindre une résolution en profondeur optimale en fonction des paramètres de l'instrument en spectroscopie des électrons Auger, en spectroscopie de photoélectrons par rayons X et en spectrométrie de masse des ions secondaires.
L'ISO 14606:2000 n'est pas prévue pour couvrir l'utilisation de systèmes multicouches spéciaux tels que des couches dopées delta.
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